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電子光學
NICol非浸沒式超高分辨率場發射掃描鏡筒，配有：
? 高亮度肖特基場發射電子搶，用于提供穩定的高分辨率分析電流
? 60度雙物鏡透鏡，支持傾斜的樣品
? 全自動加熱式光闌，可確保清潔和無接觸式更換光闌孔
? 連續電子束電流控制和優化的光闌角度
? 電子槍安裝和維護簡單－自動烘烤，自動啟動，無需機械合軸
? 雙物鏡透鏡，結合電磁透鏡和靜電透鏡
? 兩級掃描偏轉
? 雙物鏡透鏡，結合電磁透鏡和靜電透鏡
? 電子源壽命至少24個月
電子束分辨率
在好的工作距離下
? 30keV下 STEM 0.7nm
? 1keV 下 1.4nm 15keV下1nm
? 1keV下 電子束減速模式 1.2nm
創新的NICol電子鏡筒為Scios 2 DualBeam 系統的高分辨率成像和檢測功能奠定了基礎。無論是在S丁EM模式下以30 keV來獲取結構信息，還是在較低的能量下從樣品表面獲取無荷電信息，系統可在廣泛的工作條件下提供出色的納米級細節。系統獨特的鏡頭內Thermo Scientific Trinity?檢測技術可同時采集角度和能量選擇性SE和BSE圖像。無論是將樣品豎直或傾斜放置進行觀察，亦或者是觀察樣品截面，都可快速獲取詳細的納米級信息。可選配的透鏡下探測器和電子束減速模式可確保快速、 輕松地同時采集所高信號，以顯示材料表面或截面中的較小特征。依托獨特的NICol鏡筒設計和全自動合軸功能，用戶可獲得快速、準確且可重復的結果。
Scios 2 DualBeam系統可幫助所有經驗水平用戶更快、更輕松地獲得高質量、 可重復的結果。系統提供用戶向導，使新手用戶可以輕松、 快速地提高工作效率。此外，諸如 ”撤消” 和 ”重做” 之類的功能鼓勵用戶開展更多類型的實驗。
Scios 2 DualBeam系統專為材料科學中具有挑戰性的材料微觀表征需求而設計，配備了全集成化、極快速MEMS熱臺μHeater可在更接近真實環境的工作條件下進行樣品表征。110毫米樣品臺可傾斜至90°，優中心工作距離更大，確保了系統好的靈活性。 系統可選配低真空模式，可輕松兼容各種樣昂類型和數據采集。同時，系統結合了擴展的沉積和蝕刻功能、 優化的樣品靈活性和控制能力，成為通用的高性能FIB /SEM系統，所有這些都由賽默飛的專業應用和服務支持。
W-Mo-Cu樣品的三維重建，結合了 BSE （綠色-藍色）和EDS （桶色）三維數據，使用Scios 2 DualBeam系統、 AS&V4以及Avizo軟件生成。
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